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伯恩斯坦看好 ASML，列為 2026 年第三季首選晶片股
投資公司伯恩斯坦（Bernstein）發布報告，將半導體設備製造商艾司摩爾（ASML）列為其 2026 年第三季的首選投資標的，給予「表現優於大盤」（Outperform）評級，目標價設定為 2,500 歐元。報告指出，ASML 具備強勁的增長可見度與利潤率擴張潛力，使其脫穎而出。
AI 帶動設備支出，鞏固領導地位
伯恩斯坦分析，在人工智慧（AI）發展的推動下，全球晶圓廠設備（WFE）支出正大幅增長，而 ASML 作為關鍵供應商將直接受益。該公司在先進晶片製造不可或缺的極紫外光（EUV）與深紫外光（DUV）微影設備領域佔據主導地位，市佔率持續攀升。
報告強調，隨著 DRAM 生產轉向更多 EUV 層，微影技術的密集度正從 20% 穩定上升至近 30%，而在先進邏輯晶片中，此一比例更維持在 30% 以上。伯恩斯坦預期，到 2030 年，幾乎所有頂尖的 DRAM 和邏輯晶片製造商都將逐步採用高數值孔徑（High-NA）EUV 技術。
市場低估的定價能力與利潤潛力
伯恩斯坦認為，市場低估了 ASML 的定價能力和利潤擴張潛力。報告點出兩大因素：
Ad- EUV 設備價格上漲：隨著機型從 3800E 升級至 F，EUV 設備價格在兩年內已上漲 20%。
- 潛在的同類產品漲價：ASML 有可能進一步提高價格，以在供應鏈中獲取更多價值。
伯恩斯坦預估，僅憑價格上漲，EUV 業務的利潤率就有可能從目前水準擴大至 60% 區間中段。近期 ASML 財務長亦表示，公司部分設備仍有漲價空間，且 EUV 工具的產能到 2027 年底已幾乎被預訂一空。
中國相關風險疑慮被誇大
對於市場擔憂的中國風險，伯恩斯坦認為反應過度。報告解釋，在 DRAM 生產中，EUV 與 DUV 的配置比例為 1:1，這意味著 DUV 需求將與 DRAM 資本支出成正比增長。儘管有報導稱中國正在開發自有的 DUV 設備，但伯恩斯坦相信，這些產品短期內難以與 ASML 的技術競爭。
數據顯示，今年上半年，ASML 來自中國的營收佔比已降至 16%，在所有晶圓廠設備同業中為最低水平，顯示其曝險程度相對較低。