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バーンスタイン、ASMLを2026年第3四半期のトップ推奨銘柄に選定
投資会社バーンスタインは、半導体製造装置メーカーのASMLを2026年第3四半期のトップ推奨銘柄に選定し、投資判断を「アウトパフォーム」、目標株価を2,500ユーロに設定した。同社は、ASMLの力強い成長見通しと利益率拡大の可能性を評価している。
AI需要が成長を牽引
バーンスタインの分析によると、人工知能（AI）の成長を支えるためのウェハ製造装置（WFE）への支出が急増しており、これがASMLの追い風となっている。ASMLは、先端半導体の製造に不可欠な極端紫外線（EUV）および深紫外線（DUV）リソグラフィ装置の主要サプライヤーであり、市場シェアを拡大している。
同社は、リソグラフィ工程の重要性が高まっていると指摘。DRAM製造がより多くのEUV層へと移行するにつれて、リソグラフィが設備投資に占める割合は20%から30%近くまで着実に上昇しており、先端ロジック半導体では30%以上で高止まりしているという。また、次世代のHigh-NA EUV技術は、2030年までにDRAMおよびロジック半導体の主要メーカーのほぼすべてで段階的に採用されると予想している。
過小評価された価格決定力と利益率
バーンスタインは、市場がASMLの価格決定力と利益率拡大の可能性を過小評価していると主張する。その根拠として以下の2点を挙げている。
- EUV装置の価格は、3800EからFモデルへの移行に伴い2年間で20%上昇した。
- ASMLがサプライチェーン内でより多くの価値を獲得するための、さらなる価格引き上げの可能性がある。
Adバーンスタインは、価格引き上げだけでEUV装置の利益率が60%台半ばまで拡大する可能性があり、さらなる改善の余地もあるとみている。日本の製造装置メーカーがすでに価格引き上げを表明していることから、ASMLも追随する可能性が高いとの見方だ。
ASMLの最高財務責任者（CFO）も最近、一部の装置には価格を引き上げる余地があると述べ、EUV装置の生産能力は2027年末までほぼ予約で埋まっていることを明らかにしている。
中国関連のリスクは限定的
中国に関する懸念は「行き過ぎ」であるとバーンスタインは分析している。DRAM製造におけるEUVとDUVの比率は1対1であり、DUVの需要はDRAMの設備投資に比例して増加するためだ。中国が独自のDUV装置を開発しているとの報道もあるが、バーンスタインは、これらの装置が近い将来ASML製品と競合できるレベルにはならないと考えている。
ASMLの中国向け売上高比率は、今年上半期に16%まで低下しており、これはウェハ製造装置メーカーの中で最も低い水準である。