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ASML 股價因中國 DUV 疑慮重挫，分析師指長期護城河未受動搖
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荷蘭半導體設備製造商艾司摩爾 (ASML) 因中國自產 DUV 微影機消息而股價大跌，但分析認為其技術壟斷地位與飽滿訂單，使長期前景依然穩固。
荷蘭半導體設備龍頭艾司摩爾 (ASML) 股價在兩個交易日內累計下跌約 12-13%，主因市場傳出中國在深紫外光 (DUV) 微影技術上取得突破，引發投資人對其未來營收的擔憂。然而，分析指出，儘管長期競爭威脅確實存在，但中國目前的產能規模尚小，短期內對 ASML 的實質衝擊可能被市場過度反應。
中國技術突破引發市場拋售
根據《The Information》於 7 月 27 日的報導，一家位於上海的國有支持企業已開始小規模生產其自主研發的浸潤式 DUV 微影機。此消息一出，立即觸發半導體類股的廣泛拋售。
然而，從數據來看，威脅程度在短期內相對有限：
- 中國預計產能： 該公司預計 2026 年產量約為 5 台，2027 年增至約 20 台。
- ASML 現況： 相較之下，ASML 的微影設備訂單幾乎已完全售罄，能見度直達 2027 年。
報導亦指出，中國生產的設備在性能和品質上仍落後於 ASML，且需要進一步測試才能進入大規模生產。目前，中國市場約佔 ASML 總營收的 20%，但其最先進的極紫外光 (EUV) 系統已受出口管制限制。
長期護城河與短期風險評估
Ad市場對此消息的解讀出現分歧。看好者認為 ASML 的技術護城河依然穩固，ASML 在全球微影設備市場的佔有率高達 90%。中國的突破主要集中在技術層次較低的 DUV 領域，而用於製造頂尖 AI 晶片的 EUV 技術，ASML 仍處於絕對壟斷地位。此外，英特爾 (Intel) 等客戶已開始採用 ASML 最新一代、價值 4 億美元的 High NA EUV 設備，技術領先中國數個世代。
另一方面，擔憂的聲音則認為，即使中國自產設備性能較差，未來 2-3 年內仍可能逐步取代部分低階 DUV 需求，進而侵蝕 ASML 在中國的營收。同時，ASML 的股價估值偏高，在地緣政治風險升溫時，更容易受到市場情緒影響而出現劇烈波動。
後市展望與市場分析
從技術指標來看，ASML 股價在經歷連續下跌後，相對強弱指數 (RSI) 已接近 36，進入超賣區間。分析師認為，此次拋售更多是基於市場恐慌情緒，而非基本面的根本性轉變。
美國銀行 (Bank of America) 的分析框架指出，本次修正與 2015 年中國經濟放緩及 2018 年貿易戰時期的市場反應相似，當時的股價下跌最終被證明是長期投資者的買入機會。對投資人而言，關鍵問題在於，是否能承受因地緣政治消息引發的短期波動，以換取一家擁有無可匹敵的技術領導地位、EUV 壟斷優勢及飽滿訂單的企業長期價值。