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摩根大通:人工智能需求强劲,ASML考虑在2028年将EUV光刻机产量增至110台以上

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据摩根大通分析师透露,在与阿斯麦(ASML)首席财务官会晤后,该公司正研究在2028年生产超过110台极紫外光刻机(EUV)的可能性,以满足人工智能(AI)驱动的强劲市场需求。
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根据摩根大通(JPMorgan)分析师周一发布的一份报告,全球最大的芯片制造设备供应商阿斯麦(ASML)正在探索提高其旗舰产品极紫外(EUV)光刻机产量的途径。该公司正考虑在2028年生产超过110台EUV设备,以应对由人工智能(AI)引发的空前需求。
AI热潮推动需求激增
摩根大通分析师在与ASML首席财务官会面后指出,市场对先进芯片制造设备的需求“非常非常强劲”。报告称,目前新增的大部分订单都是针对2028年交付的EUV光刻机。
此前,ASML已表示其2027年的产能已基本售罄,当年可生产至少80台设备,并计划在2028年将产量提高30%。而探索将2028年产量提升至110台以上,则表明市场需求可能超出公司早前预期。对于投资者而言,这预示着ASML在未来几年内可能实现更强劲的收入增长。
产能瓶颈与客户动态
摩根大通的报告澄清,ASML当前面临的主要产能限制因素是EUV设备的组装速度,而非供应链问题。这表明公司的生产瓶颈主要在内部,而非外部依赖。
Ad在客户方面,报告提到了一些关键动态:
- 英特尔(Intel)预计将在2027年“再次成为一个重要的客户”。
- 包括埃隆·马斯克(Elon Musk)旗下Terafab在内的新客户正在“发展中”。
- 2027年,面向中国存储芯片制造商的销售额预计将更加强劲。
技术路线与未来展望
报告还指出,在本轮技术周期中,EUV技术在每块芯片制造过程中的使用“强度”(即使用率)正在增加。这意味着即使芯片出货量不变,对EUV设备的需求也会增长。
展望未来,下一代高数值孔径(High NA)EUV光刻机的采用将从2028年开始,但预计将在“未来十年内更有意义地”普及。此外,ASML对其当前的激光技术充满信心,认为没有理由尝试马斯克所青睐的新型“自由电子激光”(FEL)光源技术。