Story
ASML xem xét sản xuất hơn 110 máy quang khắc EUV vào năm 2028 do nhu cầu AI

Summary
Nhà sản xuất thiết bị bán dẫn Hà Lan đang tìm cách tăng cường năng lực sản xuất máy quang khắc EUV vào năm 2028 để đáp ứng nhu cầu 'rất, rất mạnh' từ ngành công nghiệp AI, theo một báo cáo từ JPMorgan.
ASML đang xem xét các phương án để có thể sản xuất hơn 110 máy quang khắc tia siêu cực tím (EUV) vào năm 2028, vượt mục tiêu trước đó, nhằm đáp ứng nhu cầu bùng nổ từ lĩnh vực trí tuệ nhân tạo (AI). Thông tin này được các nhà phân tích của JPMorgan công bố sau cuộc họp với Giám đốc tài chính của công ty.
Nhu cầu AI thúc đẩy năng lực sản xuất
Trong một ghi chú gửi khách hàng, các nhà phân tích của JPMorgan cho biết ban lãnh đạo ASML nhận định "nhu cầu vẫn rất, rất mạnh". Hầu hết các đơn đặt hàng hiện tại đều dành cho các máy EUV sẽ được giao vào năm 2028, sau khi công ty gần như đã bán hết sản lượng cho năm 2027.
ASML trước đó cho biết họ có thể sản xuất ít nhất 80 máy trong năm 2027 và đặt mục tiêu tăng 30% vào năm 2028. Việc xem xét sản xuất hơn 110 máy cho thấy sự gia tăng đáng kể về kỳ vọng nhu cầu, chủ yếu được thúc đẩy bởi sự phát triển của AI, vốn đòi hỏi các chip logic và bộ nhớ ngày càng phức tạp.
Triển vọng thị trường và khách hàng
Báo cáo của JPMorgan cũng chỉ ra những diễn biến tích cực từ phía khách hàng. Intel được dự đoán sẽ "trở thành một khách hàng quan trọng trở lại" vào năm 2027. Đồng thời, các khách hàng mới như Terafab của Elon Musk cũng đang trong giai đoạn phát triển.
AdNgoài ra, doanh số bán hàng cho các nhà sản xuất chip nhớ của Trung Quốc được dự báo sẽ mạnh hơn trong năm 2027. Điều này cho thấy nhu cầu đối với công nghệ của ASML đang được đa dạng hóa cả về mặt địa lý lẫn phân khúc sản phẩm.
Các yếu tố kỹ thuật và giới hạn
Theo JPMorgan, yếu tố chính giới hạn khả năng sản xuất của ASML hiện nay là tốc độ lắp ráp máy EUV, chứ không phải do các vấn đề về chuỗi cung ứng. Điều này cho thấy công ty có quyền kiểm soát lớn hơn đối với việc mở rộng quy mô sản xuất trong tương lai.
Bên cạnh đó, báo cáo cũng lưu ý một số điểm đáng chú ý về mặt công nghệ:
- "Cường độ" sử dụng EUV, tức là mức độ áp dụng trên mỗi con chip, đang tăng lên trong chu kỳ hiện tại.
- Việc áp dụng các công cụ High-NA (khẩu độ số cao) thế hệ tiếp theo sẽ bắt đầu vào năm 2028 nhưng sẽ trở nên "ý nghĩa hơn trong thập kỷ tới".
- ASML tự tin vào công nghệ laser hiện tại và không thấy lý do để thử nghiệm nguồn sáng "FEL" mới mà một số người trong ngành, bao gồm cả Elon Musk, ưa chuộng.