ASML Kaji Peningkatan Pengeluaran Mesin EUV Melebihi 110 Unit pada 2028, Kata JPMorgan

ASML sedang meneroka cara untuk menghasilkan lebih daripada 110 unit mesin litografi ultraungu ekstrem (EUV) pada tahun 2028 bagi memenuhi permintaan yang dipacu oleh kecerdasan buatan (AI), kata penganalisis JPMorgan pada hari Isnin selepas pertemuan dengan Ketua Pegawai Kewangan syarikat itu.

Syarikat gergasi peralatan semikonduktor itu sebelum ini menyasarkan peningkatan pengeluaran sebanyak 30% pada 2028 berbanding kapasiti sekurang-kurangnya 80 unit pada 2027. Perkembangan terbaharu ini menandakan potensi peningkatan yang lebih tinggi daripada sasaran awal, didorong oleh permintaan yang tidak surut untuk cip termaju.

Permintaan AI Pacu Peningkatan Kapasiti

Menurut nota daripada penganalisis JPMorgan, pengurusan ASML menyatakan bahawa "permintaan kekal sangat, sangat kukuh." Kebanyakan tempahan yang diterima kini adalah untuk penghantaran mesin EUV pada tahun 2028, memandangkan slot pengeluaran untuk 2027 dilaporkan hampir habis dijual.

Permintaan yang melonjak ini sebahagian besarnya dikaitkan dengan ledakan AI, yang memerlukan cip pemprosesan yang lebih berkuasa dan canggih. Peningkatan "intensiti" penggunaan EUV, atau jumlah lapisan EUV bagi setiap cip, juga menyumbang kepada permintaan yang lebih tinggi bagi setiap wafer yang dihasilkan.

Faktor Pembatas dan Landskap Pelanggan

JPMorgan menjelaskan bahawa faktor utama yang mengehadkan pengeluaran ASML bukanlah rantaian bekalan, tetapi kelajuan pemasangan mesin EUV itu sendiri. Ini menunjukkan bahawa keupayaan dalaman syarikat untuk memasang sistem yang kompleks ini adalah kekangan utama yang perlu diatasi.

Ad

Dari segi pelanggan, laporan itu menyoroti beberapa perkembangan penting:

• Intel dijangka "menjadi pelanggan penting semula" pada 2027.
• Pelanggan baharu seperti Terafab milik Musk sedang dalam proses pembangunan.
• Jualan kepada pembuat cip memori dari China dijangka akan menjadi lebih kukuh pada 2027.

Tinjauan Teknologi Masa Depan

ASML juga menjangkakan penggunaan alat EUV generasi akan datang, iaitu High-NA (Apertur Numerik Tinggi), akan bermula pada 2028. Walau bagaimanapun, penggunaan yang lebih meluas dan bermakna dijangka berlaku sepanjang dekad akan datang.

Berkenaan teknologi sumber cahaya alternatif seperti "FEL" yang dilaporkan menjadi pilihan Musk, ASML berpendapat ia tidak perlu diterokai. Syarikat itu yakin dengan kemajuan dalam teknologi laser sedia ada untuk memenuhi keperluan masa depan.