Intel เริ่มใช้เครื่องจักร High-NA EUV รุ่นใหม่ของ ASML ในการผลิตชิป Panther Lake

Intel ได้ตัดสินใจนำเครื่องจักรการผลิตชิประดับไฮเอนด์รุ่นใหม่ล่าสุดของ ASML มาใช้ในการผลิตชิปสำหรับแล็ปท็อปเรือธงอย่าง Panther Lake บางส่วน ซึ่งนับเป็นก้าวสำคัญที่จะช่วยให้ผู้ผลิตชิปรายนี้ได้เรียนรู้และปรับใช้เทคโนโลยีที่ซับซ้อนนี้ได้อย่างมีประสิทธิภาพยิ่งขึ้น อ้างอิงจากการเปิดเผยของ ASML

รายละเอียดการนำเทคโนโลยีมาใช้

ASML ระบุว่า หลังจากเริ่มทำการทดลองมาตั้งแต่ปี 2024 ขณะนี้ Intel ได้เริ่มใช้เครื่องจักร High Numerical Aperture (High NA) Extreme Ultraviolet (EUV) รุ่นใหม่ของบริษัท เพื่อช่วยในการผลิตชิป Panther Lake ในบางชั้น (layer) ของวงจรแล้ว

การนำมาใช้ในลักษณะนี้มีวัตถุประสงค์เพื่อให้ทั้ง Intel และ ASML สามารถรวบรวมข้อมูลและปรับปรุงประสิทธิภาพของอุปกรณ์ให้เหมาะสมที่สุด ก่อนที่จะนำไปใช้ในกระบวนการผลิตเต็มรูปแบบต่อไป ทั้งนี้ Intel ยังคงใช้เครื่องจักร EUV รุ่นมาตรฐานในกระบวนการผลิต 18A สำหรับชิป Panther Lake เป็นหลักอยู่ โดยทาง Intel ปฏิเสธที่จะแสดงความคิดเห็นต่อการประกาศดังกล่าว

ความสำคัญต่ออุตสาหกรรมและนักลงทุน

การนำเครื่องจักร High NA EUV มาใช้ยังคงเป็นประเด็นถกเถียงในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ ว่าจะคุ้มค่าทางเศรษฐกิจเมื่อใด เนื่องจากเป็นเทคโนโลยีที่มีความท้าทายทางเทคนิคสูงในการนำเข้าสู่สายการผลิต และมีต้นทุนที่สูงมาก

Ad

• ต้นทุนสูง: เครื่องจักร High NA EUV มีราคาประมาณ 400 ล้านดอลลาร์สหรัฐ ซึ่งสูงกว่าเครื่อง EUV รุ่นมาตรฐานถึงสองเท่า
• ความท้าทายทางเทคนิค: การผสานรวมเครื่องมือใหม่เข้ากับกระบวนการผลิตที่มีอยู่เดิมนั้นมีความซับซ้อน

การตัดสินใจของ Intel ในครั้งนี้ถือเป็นการส่งสัญญาณบวกต่อเทคโนโลยีดังกล่าว และเป็นการวางตำแหน่งตัวเองในฐานะผู้นำในการนำเทคโนโลยีการผลิตชิปที่ล้ำสมัยที่สุดมาใช้ ซึ่งเป็นส่วนหนึ่งของกลยุทธ์ในการทวงคืนความเป็นผู้นำด้านการผลิต สำหรับนักลงทุน นี่คือการแสดงถึงความมุ่งมั่นในระยะยาวของ Intel ต่อการวิจัยและพัฒนา แม้จะต้องเผชิญกับต้นทุนมหาศาลในระยะสั้นก็ตาม

ข้อมูลเบื้องหลัง

กระบวนการพิมพ์ลายวงจร (Lithography) คือการใช้แสงเพื่อวาดลวดลายที่ซับซ้อนของวงจรลงบนแผ่นเวเฟอร์ซิลิคอน ซึ่งเครื่อง High NA EUV จะช่วยให้สามารถพิมพ์ลายวงจรที่มีขนาดเล็กลงและซับซ้อนขึ้นได้ ซึ่งจำเป็นต่อการพัฒนาชิปในอนาคต

Intel ได้รับมอบเครื่อง High NA EUV เครื่องแรกในปี 2024 ที่ศูนย์วิจัยและพัฒนาในเมืองฮิลส์โบโร รัฐโอเรกอน ซึ่งเป็นสถานที่ที่บริษัทใช้ในการพัฒนาเทคนิคและเทคโนโลยีการผลิตใหม่ๆ