Story

Intel Mulai Gunakan Mesin Canggih ASML untuk Produksi Chip Panther Lake

ENTHMSVIIDZHZH-TWJAKOHI
Jul 15, 20261 min read
Intel Mulai Gunakan Mesin Canggih ASML untuk Produksi Chip Panther Lake

Summary

Intel telah mulai menggunakan mesin litografi High-NA EUV generasi baru dari ASML untuk sebagian produksi chip laptop Panther Lake, sebuah langkah strategis untuk menguasai teknologi manufaktur masa depan.

Text size
Background

Intel telah memutuskan untuk menggunakan mesin litografi canggih dari ASML untuk memproduksi sebagian dari chip laptop andalannya, Panther Lake. Langkah ini merupakan bagian penting dari upaya Intel untuk mempelajari dan mengoptimalkan penggunaan alat manufaktur semikonduktor generasi berikutnya, menurut pengumuman dari ASML pada hari Selasa.

Detail Penggunaan Teknologi Baru

ASML menyatakan bahwa setelah serangkaian eksperimen yang dimulai pada tahun 2024, Intel kini menggunakan mesin *extreme ultraviolet* (EUV) dengan *numerical aperture* tinggi (High-NA) untuk lapisan-lapisan spesifik pada prosesor Panther Lake. Penggunaan ini akan membantu Intel dan ASML mengumpulkan data penting untuk menyempurnakan kinerja peralatan tersebut dalam lingkungan produksi.

Prosesor Panther Lake sendiri diproduksi menggunakan proses manufaktur 18A milik Intel, yang sudah memanfaatkan mesin EUV standar dari ASML. Pihak Intel menolak memberikan komentar terkait pengumuman ini.

Konteks Industri dan Implikasi Strategis

Industri semikonduktor telah lama memperdebatkan titik waktu yang tepat secara ekonomi untuk mulai menerapkan teknologi High-NA. Peralatan ini dianggap krusial bagi produsen chip untuk terus mengecilkan ukuran fitur seukuran atom pada sirkuit terpadu di masa depan.

Sample IUX Markets – In-articleAd

Adopsi teknologi ini memiliki tantangan signifikan, baik dari sisi teknis maupun biaya. Satu unit mesin High-NA EUV diperkirakan berharga sekitar $400 juta, dua kali lipat dari harga mesin EUV standar. Keputusan Intel untuk menggunakannya pada tahap ini menandakan langkah proaktif untuk mendapatkan keunggulan dalam kurva pembelajaran teknologi.

Latar Belakang

Litografi adalah proses fundamental dalam pembuatan chip, di mana cahaya digunakan untuk mencetak pola sirkuit yang kompleks ke wafer silikon. Teknologi High-NA memungkinkan pencetakan pola yang lebih halus dan presisi, yang esensial untuk chip dengan performa lebih tinggi dan efisiensi daya yang lebih baik.

Intel telah menerima mesin High-NA pertamanya pada tahun 2024 di fasilitas penelitian dan pengembangannya di Hillsboro, Oregon. Lokasi ini merupakan pusat di mana perusahaan mengembangkan teknik dan teknologi manufaktur terbarunya.

Back to latest news

LATEST