ASML株が急落、中国の国産DUV装置開発報道で。EUVの優位性は揺るがずとの見方も

半導体製造装置で世界最大手のASMLホールディング（ASML）の株価が、中国企業による国産の液浸DUV（深紫外線）リソグラフィ装置の生産開始報道を受けて-7.37% と大幅に下落した。市場は中国事業への影響を懸念しているが、ASMLの真の競争優位性は、中国がアクセスできない次世代のEUV（極端紫外線）技術にあり、同社の「堀」は依然として堅固であるとの見方が強い。

中国の国産DUV開発と市場の反応

米メディア「The Information」の報道によると、上海を拠点とする中国の国策企業が、液浸DUVリソグラフィ装置の限定的な生産に成功した。2026年に約5台、2027年に約20台の生産を目標としており、納入先はSMICや華虹半導体（Hua Hong）、CXMTなど、ASMLの既存の中国顧客とされている。

ASMLの2026年の収益において中国市場は約20%を占めると見られており、DUV装置はその売上の重要な部分を構成する。このため、中国での競合出現は短期的な収益への懸念材料と見なされ、株価の急落につながった。

ASMLの競争優位性：EUV技術という「堀」

しかし、今回の報道を文脈の中で捉え直すと、様相は大きく異なる。ASMLの揺るぎない競争優位性の源泉は、旧世代の技術であるDUVではなく、最先端のEUVリソグラフィ技術にある。中国は輸出規制によってEUV技術へのアクセスを法的に禁じられており、国産化もまだ試作段階に留まっている。

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さらにASMLはすでに、1台4億ドルにのぼる次世代のHigh NA EUV（高開口数EUV）装置を市場に投入し、今後10年間の半導体製造のフロンティアを切り拓いている。中国の国産DUV装置は性能や信頼性の面でまだ課題を抱えており、量産体制の確立には数年を要すると見られる。技術世代において、両社の間には依然として大きな隔たりが存在する。

財務基盤と今後の見通し

ASMLの強固な地位は、その受注残高にも表れている。同社のEUV装置は2027年分がほぼ完売しており、2028年分の受注も相当数確保している。また、数週間前に装置価格の引き上げを発表しており、これは競争圧力に直面していないサプライヤーだけが取りうる戦略だ。

バンク・オブ・アメリカは、今回の株価下落を「買いの好機」と評価。一方で、中国市場がASMLの収益の約20%を占めるという事実は無視できず、国産DUV装置の普及が想定より早く進めば、レガシー装置の売上に影響が及ぶリスクは残る。しかし、ASMLが年間数百台の装置を出荷するのに対し、中国の生産目標は数十台に過ぎず、その規模の差は大きい。市場の短期的な懸念とは裏腹に、EUVとHigh NA EUVが築く技術的独占は、当面揺るがないと見られている。