ASML Bekerjasama dengan Gergasi Cip untuk Menaik Taraf Peralatan High-NA bagi Cip Bersaiz Besar

ASML, syarikat peralatan pembuatan cip terkemuka dari Belanda, telah mengumumkan rancangan untuk bekerjasama dengan pelanggan utamanya bagi membangunkan keupayaan peralatan tercanggihnya untuk menghasilkan cip pusat data bersaiz besar, seperti yang direka oleh Nvidia dan syarikat teknologi lain.

Peningkatan Teknologi Litografi

ASML mengeluarkan peralatan litografi, yang berfungsi mencetak litar pada wafer silikon menggunakan cahaya. Peralatan *extreme ultraviolet* (EUV) sedia ada boleh mencetak cip sehingga kira-kira 800 milimeter persegi, saiz maksimum yang sering digunakan oleh pereka cip seperti Nvidia dan Google.

Walau bagaimanapun, generasi peralatan akan datang yang dikenali sebagai High-NA EUV, walaupun mampu mencetak ciri yang lebih halus, kini terhad kepada saiz cip yang lebih kecil kerana penggunaan 'topeng' (templat corak cip) yang lebih kecil. Langkah untuk membangunkan topeng yang lebih besar untuk mesin High-NA ini adalah kritikal untuk memacu penggunaan meluas teknologi ini dalam pengeluaran volum tinggi.

Jadual Pelaksanaan dan Komitmen Industri

Beberapa pemain utama dalam industri semikonduktor telah menyatakan komitmen mereka terhadap teknologi baharu ini. Intel dilaporkan sudah pun menggunakan peralatan High-NA terbaharu ASML untuk cip komputer ribanya.

Perancangan penggunaan oleh syarikat lain adalah seperti berikut:

Ad

• SK Hynix dan Samsung Electronics menyasarkan untuk memperkenalkan EUV High-NA ke dalam pengeluaran besar-besaran cip memori DRAM menjelang 2028.
• Taiwan Semiconductor Manufacturing Co (TSMC) merancang untuk menggunakan teknologi High-NA dalam pengeluaran volum tinggi nod termaju mulai 2030.

ASML sendiri menyasarkan untuk mempamerkan barisan pengeluaran perintis dengan topeng yang lebih besar menjelang 2031 dan menyediakan teknologi baharu ini untuk pengeluaran volum tinggi menjelang 2033.

Impak kepada Pasaran

Inisiatif ini penting untuk masa depan pengkomputeran berprestasi tinggi, terutamanya dalam bidang kecerdasan buatan (AI) dan pusat data yang memerlukan cip yang semakin besar dan kompleks. Menurut Marco Pieters, Ketua Pegawai Teknologi ASML, kejayaan projek ini boleh meningkatkan produktiviti sistem tersebut sebanyak 40%.

Kerjasama ini menandakan penyelarasan strategik jangka panjang antara pemain utama dalam ekosistem semikonduktor. Ia memastikan peta jalan teknologi dapat memenuhi permintaan yang semakin meningkat daripada pereka cip, sekali gus mengekalkan momentum inovasi dalam industri.