ASML Gandeng Produsen Cip untuk Adaptasi Alat High-NA bagi Cip Pusat Data Berukuran Besar

Perusahaan peralatan manufaktur cip asal Belanda, ASML, mengumumkan rencana untuk berkolaborasi dengan para pelanggan utamanya guna memproduksi cip pusat data berukuran besar, seperti yang dirancang oleh Nvidia, menggunakan alat litografi tercanggihnya. Inisiatif ini bertujuan untuk mengatasi keterbatasan ukuran pada teknologi generasi terbaru perusahaan.

Mengatasi Keterbatasan Teknologi

ASML merupakan produsen utama alat litografi, mesin yang mencetak sirkuit pada wafer silikon menggunakan cahaya yang diproyeksikan melalui sebuah cetakan (dikenal sebagai *mask*). Alat *extreme ultraviolet* (EUV) yang saat ini banyak digunakan mampu mencetak cip dengan luas hingga 800 milimeter persegi.

Namun, generasi alat berikutnya yang disebut "High-NA" EUV, meskipun mampu mencetak fitur yang jauh lebih halus, saat ini memiliki batasan pada ukuran cip yang dapat diproduksi karena menggunakan *mask* yang lebih kecil. Keterbatasan ini menjadi kendala untuk memproduksi cip pusat data besar yang menjadi andalan perusahaan seperti Nvidia dan Google.

Kolaborasi dan Lini Masa Industri

Untuk mengatasi masalah ini, ASML akan bekerja sama dengan para raksasa industri semikonduktor untuk beralih ke ukuran *mask* yang lebih besar pada mesin High-NA. Langkah ini diharapkan dapat mendorong adopsi yang lebih luas untuk produksi volume tinggi.

Beberapa pemain utama telah mengumumkan jadwal adopsi teknologi ini:

Ad

• Intel saat ini telah menggunakan alat High-NA untuk cip laptop, namun belum untuk produksi massal.
• Samsung Electronics dan SK Hynix menargetkan penggunaan High-NA EUV untuk produksi massal cip memori DRAM pada tahun 2028.
• Taiwan Semiconductor Manufacturing Co (TSMC) berencana menggunakan teknologi High-NA dalam produksi volume tinggi untuk node canggih mulai tahun 2030.

ASML sendiri menargetkan untuk menunjukkan lini percontohan dengan *mask* yang lebih besar pada tahun 2031 dan menyiapkan teknologi baru ini untuk produksi volume tinggi pada tahun 2033.

Implikasi dan Peningkatan Produktivitas

Menurut laporan Reuters, transisi ke *mask* yang lebih besar ini sangat krusial untuk masa depan komputasi performa tinggi dan kecerdasan buatan (AI). Chief Technology Officer ASML, Marco Pieters, menyatakan bahwa keberhasilan inisiatif ini akan membawa dampak signifikan.

"Jika kita berhasil melakukannya sebagai sebuah industri, maka Anda akan melihat bahwa produktivitas sistem-sistem tersebut akan meningkat sebesar 40%," kata Pieters kepada Reuters. Peningkatan ini akan menjadi faktor kunci dalam memenuhi permintaan yang terus meningkat akan cip yang lebih kuat dan efisien.