傳中國DUV微影技術獲突破 艾司摩爾與美國晶片設備股應聲重挫

根據科技媒體《The Information》週一報導，中國在半導體製造關鍵設備上取得突破，消息一出，立即引發市場拋售潮，導致歐洲半導體設備龍頭艾司摩爾（ASML）及多家美國同業股價由紅翻黑，大幅收低。

報導詳情與市場反應

報導引述消息人士指出，一家位於上海、具官方背景的公司，已首次成功量產自製的浸潤式深紫外光（DUV）微影機。這項發展被視為北京當局為建立本土晶片供應鏈、繞過西方技術管制的關鍵一步。

此消息衝擊下，半導體設備股全面承壓。ASML 股價抹去盤前超過 2% 的漲幅，終場重挫 5.06%。美國主要設備商也同步走低，應用材料（Applied Materials）下跌 4.05%，科林研發（Lam Research）下跌 4.49%，科磊（KLA Corp）則下跌 3.60%。

對產業龍頭的衝擊

這項技術突破對西方設備商構成了直接的競爭威脅。市場分析認為，其影響主要有兩方面：

Ad

• 威脅 ASML 的金雞母：由於美國與荷蘭的出口管制，ASML 已被禁止向中國出售其最先進的極紫外光（EUV）設備。因此，技術較舊的 DUV 微影機成為中國晶片製造商大量採購的產品，是 ASML 的重要營收來源。若中國能穩定供應本土替代品，ASML 在中國最大的業務支柱將面臨根本性威脅。
• 蔓延效應衝擊美國同業：微影技術被公認是半導體製造中最複雜的瓶頸。市場的邏輯是，如果中國能克服微影技術的難關，那麼取代供應鏈其他環節（如沉積、蝕刻、檢測）的設備也只是時間問題。投資人擔憂，一個完全在地化的中國晶片產業，最終將使美國設備商在中國的潛在市場規模（TAM）歸零。

制裁反效果隱憂浮現

此一發展也讓市場重新評估西方出口管制的成效。美國國會正推動《MATCH Act》法案，旨在進一步阻止中國購買或維修 DUV 設備。然而，若中國真能自製，這些限制措施的效力將大打折扣。

對投資者而言，這可能形成一種最壞的情況：西方企業不僅失去了利潤豐厚的中國市場，同時也未能達成在戰略上遏制中國技術進步的目標。這意味著，出口管制可能反而加速了北京的自主研發進程。