傳中國已開始生產自製DUV曝光機 挑戰ASML壟斷地位

根據科技媒體《The Information》引述知情人士報導，中國已開始製造自主研發的浸潤式深紫外光 (DUV) 曝光機，這項長期由荷蘭供應商艾司摩爾 (ASML) 主導的關鍵晶片製造設備，迎來了新的挑戰者。

中國半導體自主化的關鍵一步

報導指出，這款由一家未具名的中國國有企業所製造的設備，預計將於今年內交付給國內主要的晶片製造商，包括中芯國際 (SMIC)、華虹半導體及長鑫存儲 (CXMT)。

在美國主導的出口管制下，中國晶片製造商無法取得最先進的極紫外光 (EUV) 曝光機。因此，浸潤式 DUV 曝光機成為中國目前所能取得最頂尖的晶片製造工具。這項國產化突破，可能為中國半導體產業在面臨更嚴格的外國設備出口與服務限制時，提供一個關鍵的替代方案。

市場反應與產業影響

此消息一出，立即對市場造成衝擊。全球曝光機龍頭 ASML 的股價在報導發布後應聲下跌 4.6%，反映了投資者對於其在中國市場的長期主導地位可能受到侵蝕的擔憂。

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長遠來看，儘管短期內難以撼動 ASML 的技術優勢，但中國自製設備的出現，可能逐步降低對進口設備的依賴。此外，報導也提及中國仍在開發自己的 EUV 曝光機，但目前仍處於原型階段。

技術與產能仍有差距

然而，報導也強調，中國自製的 DUV 系統在性能和可靠性方面仍落後於 ASML 的成熟產品，且在投入大規模量產前仍需進一步測試。這意味著 ASML 的技術優勢在短期內依然穩固。

知情人士透露，初期的產能將非常有限，預計今年的產量約為 5 台，到 2027 年將增加至約 20 台。這些數據表明，中國在實現高階半導體設備完全自主化的道路上，仍有相當長的路要走。