รายงาน: จีนเริ่มผลิตเครื่องจักรผลิตชิป DUV ได้เอง ท้าทายการครองตลาดของ ASML

จีนได้เริ่มการผลิตเครื่องจักรลิโธกราฟีแบบ Deep Ultraviolet (DUV) ที่พัฒนาขึ้นเองภายในประเทศ ซึ่งเป็นเครื่องมือสำคัญในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ และถือเป็นความท้าทายต่อการครองตลาดของ ASML จากเนเธอร์แลนด์ ตามรายงานของ The Information ที่อ้างอิงแหล่งข่าวที่เกี่ยวข้อง

ความก้าวหน้านี้ถือเป็นหมุดหมายสำคัญในความพยายามของจีนที่จะสร้างความมั่นคงและพึ่งพาตนเองในห่วงโซ่อุปทานเซมิคอนดักเตอร์ ท่ามกลางแรงกดดันจากมาตรการจำกัดทางการค้าของสหรัฐฯ

ความก้าวหน้าครั้งสำคัญของอุตสาหกรรมชิปจีน

รายงานระบุว่าเครื่องจักร DUV ที่ผลิตในจีนชุดแรกคาดว่าจะถูกส่งมอบภายในปีนี้ให้กับผู้ผลิตชิปชั้นนำของประเทศ ซึ่งรวมถึง Semiconductor Manufacturing International Corp (SMIC), Hua Hong Semiconductor และ ChangXin Memory Technologies

ผู้ผลิตเครื่องจักรดังกล่าวเป็นบริษัทที่ได้รับการสนับสนุนจากรัฐบาลจีน แต่ไม่มีการเปิดเผยชื่อเนื่องจากเป็นประเด็นที่ละเอียดอ่อน ความสำเร็จในการผลิตเครื่องจักรที่ซับซ้อนนี้จะช่วยลดการพึ่งพาเทคโนโลยีจากต่างประเทศในระยะยาว

ผลกระทบต่อตลาดและ ASML

ข่าวนี้ส่งผลกระทบต่อตลาดในทันที โดย หุ้นของ ASML ร่วงลง 4.6% หลังการเผยแพร่รายงานดังกล่าว สะท้อนความกังวลของนักลงทุนต่อการแข่งขันที่อาจเกิดขึ้นในอนาคต อย่างไรก็ตาม รายงานชี้ว่าความได้เปรียบของ ASML ยังคงอยู่ เนื่องจากเครื่องจักรของจีนยังมีประสิทธิภาพและความน่าเชื่อถือที่ตามหลัง และยังต้องผ่านการทดสอบเพิ่มเติมก่อนการผลิตในปริมาณมาก

Ad

กำลังการผลิตของจีนในช่วงแรกยังคงมีจำกัด โดยมีรายละเอียดดังนี้:

• คาดว่าจะผลิตได้ประมาณ 5 เครื่อง ในปีนี้
• ตั้งเป้าเพิ่มการผลิตเป็นประมาณ 20 เครื่อง ภายในปี 2027

บริบทและนัยสำคัญเชิงกลยุทธ์

เครื่องจักร Immersion DUV เป็นเทคโนโลยีการพิมพ์ลายวงจรบนแผ่นเวเฟอร์ซิลิคอนที่ทันสมัยที่สุดที่ผู้ผลิตชิปของจีนสามารถเข้าถึงได้ในปัจจุบัน หลังจากที่ถูกจำกัดการเข้าถึงเทคโนโลยีขั้นสูงสุดอย่าง Extreme Ultraviolet (EUV) จากมาตรการคว่ำบาตร

การพัฒนาเทคโนโลยี DUV ได้เองจะทำให้บริษัทจีนมีแหล่งจัดหาเครื่องมือที่สำคัญเป็นทางเลือก ในขณะที่สหรัฐฯ กำลังพิจารณาที่จะเพิ่มความเข้มงวดในการควบคุมการส่งออกและการให้บริการที่เกี่ยวข้องกับเครื่องจักรลิโธกราฟีในจีน นอกจากนี้ จีนยังอยู่ในระหว่างการพัฒนาเครื่องจักร EUV ของตนเอง แต่ยังคงอยู่ในขั้นตอนของเครื่องต้นแบบ