路透：中國開始量產自製浸潤式DUV微影機 上海國企主導

根據路透社引述知情人士報導，中國已開始量產自主開發的浸潤式深紫外光 (DUV) 微影機，這項先進晶片製造的關鍵技術突破，標誌著北京在降低對外國技術依賴的道路上邁出重要一步。

神秘國企「上海艾晟納」浮出水面

消息來源指出，主導這項生產計畫的是一家鮮為人知的中國國有企業「上海艾晟納電子科技集團」。該公司整合了中國頂尖微影技術新創公司的團隊，正全力推動量產。

• 公司背景：根據企業註冊資料，上海艾晟納成立於2023年8月，註冊資本額為70億元人民幣，股東為上海電氣控股集團及上海國際信託的子公司，具有濃厚的官方色彩。
• 技術整合：據悉，該公司吸收了微影新創宇量昇 (Yuliangsheng) 以及上海微電子裝備 (SMEE) 的團隊。宇量昇去年已開始測試DUV原型機。
• 生產目標：科技媒體《The Information》先前報導，一家上海國企今年計畫生產約5台該設備，並在2027年提高至約20台。預計首批設備將交付給中芯國際 (SMIC)、華虹半導體 (Hua Hong) 及長鑫存儲 (CXMT) 等中國主要晶片製造商。

戰略意義重大 但技術仍待驗證

儘管這項發展對北京的半導體自主計畫是一大勝利，但短期內不會對市場領導者荷蘭的艾司摩爾 (ASML) 構成直接商業威脅。消息人士稱，艾晟納的DUV設備仍需進一步測試，其性能與ASML的同級產品相比仍有相當大的差距。

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然而，其戰略意義不容小覷。若西方國家進一步收緊出口管制或對現有設備的維修服務，中國自製的DUV微影機將為本土晶片廠提供一個替代方案。浸潤式DUV技術透過在投影鏡頭與矽晶圓之間加入一層水，能比傳統乾式系統蝕刻出更小的電路圖案，是生產主流晶片的關鍵設備，並可透過多重曝光 (multiple patterning) 技術用於製造更先進的半導體。

市場反應與背景脈絡

在《The Information》最初報導此消息後，ASML股價於週一應聲下跌超過8%，反映市場對潛在競爭的擔憂。此一發展的背景是美國與荷蘭聯手實施的出口管制，禁止中國取得ASML最先進的極紫外光 (EUV) 微影機，並限制其購買部分先進的DUV機型。

面對外部壓力，中國傾全國之力加速半導體設備的國產化進程。路透社去年12月曾報導，中國已成功打造出EUV系統的原型機，但距離量產仍有數年之遙。此次浸潤式DUV的量產消息，顯示其在技術追趕上又取得了一項階段性成果。