传中国已开始量产国产浸润式DUV光刻机

据路透社援引一位知情人士消息，中国已开始大规模生产其自主研发的浸润式深紫外（DUV）光刻机。这一进展是中国在推动半导体技术自主、减少对外国技术依赖方面取得的重大突破。

神秘国企主导生产

消息人士透露，负责此项生产任务的是一家名为上海爱晟那电子科技集团的国有企业。该公司成立于2023年8月，注册资本为70亿元人民币，由上海电气控股集团和上海国际信托的一家子公司共同持股。据称，爱晟那整合了中国顶尖光刻机初创企业（包括上海微电子装备和昱良生）的团队，从而推动了这一进程。

根据科技新闻媒体《The Information》早前的报道，这家位于上海的国有企业计划在今年生产约5台光刻机，到2027年产量将提升至约20台。报道还指出，首批设备预计将于今年交付给包括中芯国际、华虹半导体和长鑫存储在内的中国主要芯片制造商。

市场影响与技术差距

这一消息对全球半导体设备市场格局构成了潜在的长期挑战。全球光刻机市场的领导者、荷兰公司阿斯麦（ASML）的股价在周一应声下跌超过8%，反映了投资者的担忧。尽管如此，消息人士也指出，爱晟那的DUV光刻机仍需进一步测试，其性能与ASML的同类成熟产品相比仍有较大差距，短期内不会构成直接的商业威胁。

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然而，从战略层面看，国产DUV光刻机的成功部署，将为中国芯片制造商提供一个关键的设备替代来源。在美国和荷兰等国持续收紧对华先进芯片设备（包括部分高端DUV和所有EUV光刻机）的出口管制背景下，这一自主供应能力对保障中国半导体产业链的安全至关重要。

背景：打破技术封锁

浸润式DUV光刻机是制造先进芯片的核心设备，它通过在投影镜头和硅晶圆之间增加一层水介质，可以光刻出比传统干式系统更精细的电路图案。虽然最顶尖的芯片需要更先进的极紫外（EUV）光刻机，但浸润式DUV技术对于生产绝大多数成熟和部分先进制程的芯片仍然不可或缺。

长期以来，中国一直被美国禁止购买ASML最先进的EUV光刻系统，而荷兰的出口管制也限制了其获取部分先进DUV设备。此次国产浸润式DUV光刻机的量产，被视为中国为突破技术封锁、实现半导体产业自给自足国家战略的关键一步。