艾司摩爾股價重挫，傳中國國產 DUV 微影機技術獲突破

根據科技媒體《The Information》報導，一家位於上海的中國國營支持企業在浸潤式深紫外光 (DUV) 微影機的開發上取得突破，並已成功進入小規模量產階段，此消息引發市場對半導體設備龍頭艾司摩爾 (ASML) 未來競爭格局的擔憂，導致其股價在週一早盤交易中重挫 4.5%，跌至 1,677.71 美元。

中國技術突破引發市場擔憂

報導指出，這是中國首次具備自主量產此類關鍵設備的能力。該消息不僅抹去了艾司摩爾超過 2% 的盤前漲幅，更拖累了其他美國晶片設備同業，如應用材料 (Applied Materials)、科林研發 (Lam Research) 和科磊 (KLA Corp) 的股價同步走低。相較之下，標普 500 指數和那斯達克指數當日均上漲約 0.6%，凸顯了此次拋售壓力主要源於地緣政治與產業競爭動態，而非廣泛的市場避險情緒。

對艾司摩爾的潛在衝擊

中國市場對艾司摩爾至關重要，預計將佔其 2026 年總營收的 20% 左右，而 DUV 設備是其中重要的營收來源。儘管在美國主導的出口管制下，艾司摩爾已被禁止向中國出售其最先進的極紫外光 (EUV) 和高階 DUV 系統，但其餘的 DUV 業務仍是關鍵。若中國本土的替代方案逐漸成熟，將直接威脅到艾司摩爾在中國的市佔率。

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據報導，這家中國公司計劃今年生產約五台系統，並在 2027 年增加至約 20 台，初期將交付給中芯國際 (SMIC)、華虹 (Hua Hong) 和長鑫存儲 (CXMT) 等主要中國晶片製造商。

短期威脅有限，但中長期風險浮現

儘管取得了里程碑式的進展，但消息來源也表明，中國國產的微影機在性能和製造品質上仍落後於艾司摩爾的系統，且可能需要數月的測試才能正式投入產線。這意味著短期內的直接競爭威脅仍然有限。

然而，投資者正重新評估中國本土替代方案可能在中期內侵蝕艾司摩爾 DUV 市場份額的風險。在艾司摩爾股價今年以來大幅上漲、估值偏高的背景下，此一消息成為了市場進行風險重新定價的催化劑。儘管如此，艾司摩爾強勁的基本面，包括上調的 2026 年全年營收展望和延伸至 2028 年的穩健 EUV 訂單能見度，目前依然未變。