應用材料股價重挫，中國國產DUV曝光機量產消息引發市場擔憂

半導體設備大廠應用材料 (Applied Materials) 股價週一盤中重挫，因有報導指出一家中國國營支持的企業已成功量產自家研發的浸潤式深紫外光 (DUV) 曝光機，引發市場對西方供應商未來在中國市場需求的擔憂。

中國半導體自主化傳出突破

根據科技媒體《The Information》的報導，一家位於上海、由國家支持的中國公司已成功開始量產其本土研發的浸潤式DUV曝光機。這類晶片製造工具長期以來由西方供應商主導。

此消息立即引發了晶片設備類股的廣泛拋售潮，不僅應用材料股價受挫，其同業如科林研發 (Lam Research)、科磊 (KLA Corp) 以及荷蘭的艾司摩爾 (ASML) 股價也同步大幅走低。

對設備製造商的潛在衝擊

這項發展對應用材料的影響尤為顯著，因為中國市場佔其營收相當大的比重。該公司已預計在2026財年將因美國的出口管制措施而面臨 6億至7.1億美元 的營收逆風，而此次的報導加劇了市場的憂慮，擔心北京推動半導體供應鏈自給自足的政策，將長期進一步侵蝕對西方設備的需求。

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週一盤中交易，各家設備大廠股價均受重創：

• 應用材料 (AMAT): 下跌 7.1%
• 科林研發 (LRCX): 下跌 7.91%
• 科磊 (KLAC): 下跌 5.52%
• 艾司摩爾 (ASML): 下跌 7.35%

市場背景與展望

儘管報導指出，中國國產的DUV設備在精密度上可能尚未達到外國頂尖型號的水準，但此里程碑標誌著中國在本土化進程上邁出了重要一步。這項消息成為今日半導體類股下跌的決定性觸發因素，重新點燃了市場對出口管制風險和中國市場准入的長期擔憂。

此外，整體市場環境也未能提供支撐。由於投資者在本週聯準會政策會議前保持謹慎態度，科技股普遍回檔，那斯達克指數下跌0.4%，標普500指數也下滑0.2%。在多重因素疊加下，中國的技術突破報導，其影響蓋過了應用材料先前上調全年半導體設備增長展望等利多基本面。