中國DUV微影技術傳突破，科磊股價重挫近6%

半導體設備大廠科磊 (KLA Corp.) 股價在週一盤中交易重挫 5.9%，主因一則報導指出，一家位於上海的中國國有企業已成功首次量產自製的浸潤式深紫外光 (DUV) 微影設備，此一發展衝擊了全球半導體設備產業。

中國技術突破引發市場擔憂

該報導引發市場擔憂，認為中國晶片製造商可能因此減少對西方製程控制與晶圓廠設備供應商的依賴，而科磊正是在此領域的領導廠商。此消息被視為中國在建立半導體自主供應鏈方面邁出的重要一步，可能對現有供應商的長期營收構成威脅。

受此消息衝擊，科磊股價應聲下挫，一度觸及 195.56 美元的日內低點。

科磊曝險高，同業普遍承壓

科磊對此類地緣政治發展尤為敏感，因為中國市場是其重要的營收來源，近年來約佔其總銷售額的三分之一。市場擔憂技術自主化的趨勢將削弱科磊在中國的市場地位。

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這波賣壓並非僅限於科磊，而是擴及整個產業。其主要競爭對手如應用材料 (Applied Materials) 和科林研發 (Lam Research) 的股價也同步大幅下挫，證實這是市場對整個半導體設備行業的普遍反應，而非針對單一公司的事件。

財報前夕與市場逆風加劇賣壓

除了中國供應鏈的變數外，其他因素也加劇了賣壓。科磊預計將於明日盤後公布財報，投資者似乎在財報發布前先行減持部位以規避風險。

與此同時，整體市場環境也未能提供支撐，那斯達克指數下跌 0.4%，標準普爾 500 指數則下滑 0.2%，科技股普遍走弱。市場同時也在觀望本週稍晚聯準會的政策會議結果，投資氣氛偏向謹慎。地緣政治供應鏈的擔憂、偏高的估值以及財報前的觀望情緒，共同導致了今日的股價大幅修正。